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荷蘭飛納發(fā)布臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射(FEG)電鏡能譜一體機(jī) Phenom LE：分辨率提升至2.5nm
2018 年7月24日，荷蘭飛納Phenom 在儀器信息網(wǎng)第四屆電鏡網(wǎng)絡(luò)會(huì)議(iCEM 2018)首日重磅推出其顛覆性創(chuàng)新產(chǎn)品——全球首創(chuàng)臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射(FEG)掃描電鏡能譜一體機(jī)Phenom LE：采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)成⑸潆娮映上?，二次電子成像和能譜分析于一體，分辨率優(yōu)于 2.5nm@15kV，放大倍數(shù) 500,000x。只需一張承重200kg以上的桌子就可以安裝飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射(
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